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研發技術

水平式掃描鍍膜技術
 創能
可工服委託
技術特色
●高磁場旋轉靶設計:擁有900高斯的AC圓柱濺鍍源,另採用內磁場控制設計,有助於降低濺鍍離子轟擊,進而提升薄膜品質;利用旋轉型圓柱靶材,可顯著增加靶材使用率。
應用服務
水平式掃描鍍膜技術
示範場域太陽能即時發電資訊(更新時間:2023/12/05 12:00): 357.368 kW
業務窗口:
沙崙綠能科技示範場域營運辦公室
(代表號:06-3636777)
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